/ DETAILED PARAMETERS
驱动系统
抛光盘运行通过主驱动系统控制，转速可通过程序控制调节；
机身材料
千级（或以上）洁净室使用环境，全工艺过程中不产尘、不引入其他杂质与污染；设备由防腐蚀材料构成，整机防腐，适用于腐蚀性抛光溶剂，如溴甲醇、酸碱等腐蚀剂；
进料系统
为实现化学抛光等各种复合工艺，设备支持双通道进料系统，可单独/同时工作，进料速率可实现数字化控制。供液流量控制范围：0~10ml/s；
抛光盘
转速连续可调：0~100rpm；抛光盘的更换、维护快速而简便，嵌入式盘；
具有定时功能
可设定抛光时间，到达后停止工艺，设定时间0~60min，连续可调；
具有操作面板和控制器
可集成转速、流速等工艺参数的数控显示与控制；
设计有出液口，用于废液的导出，使得整个工艺过程变得简单快洁；
具有可连续的供液系统≥2，可在抛光工艺过程中补充抛光液；
废液回收系统
设备具有废液回收系统，可安全回收工艺废液；
结构
一体式可拆卸结构，采用行星环绕运动方式；设备台面具有可拆卸性，便于抛光垫更换与零部件的维修；设备运行偏心距离为5mm（即齿轮圆心与玻璃衬底圆心之间距离为5mm）；
设备电源
220-240V；10A；50-60HZ；
***功耗
3KW。
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